日本三丰物镜M Plan Apo NIR 10× 378-823-5

 M Plan Apo NIR
M Plan Apo NIR 5× 378-822-5 0.14 37.5 40 2.0 14.0 4.8 0.96×1.28 220
M Plan Apo NIR 10× 378-823-5 0.26 30.5 20 1.1 4.1 2.4 0.48×0.64 250
M Plan ApoNIR 20× 378-824-5 0.40 20.0 10 0.7 1.7 1.2 0.24×0.32 300
M Plan ApoNIR 50× 378-825-5 0.42 17.0 4 0.7 1.6 0.48 0.10×0.13 315
M Plan ApoNIR 100× 378-826-15 0.50 12.0 2 0.6 1.1 0.24 0.05×0.06 335

 上述规格栏中的分辨力和物镜单体焦深是根据基准波长(λ＝0.55μm)计算得出的值。
注)使用的波长如果在1100nm以上，玻璃色散的变化和折射率等的测量可能会出现误差，略微偏离可见光的聚焦位置

 ·无限远校正 ·明视场观察及激光加工用
·长工作距离 ·平场复消色差规格
· 对可见区(常用观察波长区)到近红外区(波长～1800nm)进行
了校正设计。
· NIR HR：高分辨力规格···分辨力提高 约50％以上(与标准型相比)

 明视场用近红外区校正 物镜
M Plan Apo NIR /
M Plan Apo NIR HR

 紧凑、轻巧的相机观察显微镜
适用于金属、树脂、印刷表面、微小运动物体等各种观察对象。
·适用于使用YAG激光(近红外、可见、近紫外、紫外)的微细加工※ ※不保证激光振荡器配备系统的综合性能和安全性。
半导体电路的切割、修整、修正、打标、薄膜(绝缘膜)的去除和加工、液晶彩色滤光片等的修复(修正缺陷)等。
·适用于红外光学系统※
硅类的内部观察、红外光谱特征分析等。※另需红外光源和红外摄像机等。
·反射照明光学系统标配带孔径光阑远心照明
需要均匀照明的图像处理。可用于尺寸测量、形状检查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B强化了显微镜主体的刚性和综合性能(与以往产品相比)
·除标准规格外，还可按照需求设计制作双相机、双倍率(低倍率、高倍率)等产品

 NA=Numerical Aperture的略语
数值孔径NA是决定物镜分辨力、焦深、图像亮度的重要数值。
数值孔径NA通过下列公式来表示，其数值越大，就越能得到高分辨力、焦深浅的图像
n是物镜顶端与工件之间的媒介具有的屈光率，在空气中n=1.0。是通过物镜外侧的光线与镜头中心（光轴）之间形成的角度
R=Resolving power的略语
能够将离得很近的点或线区分开来的小间隔叫做分辨力，表示解像度的极限。
分辨力(R)由数值孔径NA和波长(λ)来决定
W.D.=Working Distance的略语
是指对准焦点时从试样上表面到物镜前端的距离

 日本三丰物镜M Plan Apo NIR 10× 378-823-5